ベネック、ジェイソン・ハリソン博士を最高経営責任者（CEO）に任命

半導体業界のリーダーがトップに就任し、原子層堆積（ALD）分野におけるベネックの次なる成長段階を加速

フィンランド、エスポー--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 原子層堆積（ALD）のパイオニアであるベネックは、ジェイソン・ハリソン博士を最高経営責任者（CEO）に任命したと発表しました。ハリソン博士はトンミ・ヴァイニオ博士の後任として、半導体、光学、および新興技術市場におけるベネックの次なる成長フェーズを率います。

戦略的な経営体制の移行

ベネックは、力強い事業成長の勢いを背景に、次なる成長段階へと進んでいます。最近の主な成果としては、GaNパワーデバイスおよびRFフィルターデバイスの量産向けに「Beneq Transform®」クラスターツールの認定を取得したこと、「Beneq Transmute™」および「Beneq Transform® XP」を投入し、特殊半導体の量産（HVM）向けに最適化したこと、先端ノードデバイス向け重要チャンバー部品のコーティング用途で「P-Series」の採用が拡大していること、さらに次世代XR光学向けARウェーブガイド製造用として「C2R™」が採用されたことなどが挙げられます。

こうした状況を踏まえ、取締役会は、進化する事業戦略に経営体制を合わせる適切なタイミングであると判断しました。この移行の一環として、トンミ・ヴァイニオ博士は他の機会を追求するため、CEOを退任することを決定しました。取締役会は、薄膜堆積分野におけるベネックの技術基盤を強化し、市場での地位向上を推進するとともに、同社の重要な成長段階を導いたヴァイニオ博士のリーダーシップに対し、深い感謝の意を表しています。

成長するALD事業を率いる実績あるリーダー

ハリソン博士は、半導体および先端技術分野において豊富なグローバル経験を有しています。量子化学の博士号を取得しており、デバイス製造、プロセス開発、装置ソリューション分野で優れたキャリアを築いてきました。Intel、Lam Research、Veeco、Applied Materialsで上級管理職を歴任し、研究開発、新製品導入、グローバルアカウント管理、事業部門統括などを担当してきました。このような技術的専門性と事業運営力の組み合わせにより、ベネックのグローバルな顧客基盤における事業遂行力を強化し、さらなる成長を推進していくことが期待されています。

今後の展望

ハリソン博士のリーダーシップのもと、ベネックは拡大する製品ポートフォリオ全体にわたる戦略実行を加速し、北米、アジア、欧州における顧客との関係強化を進めます。また、研究開発から量産工程までを支える革新的なALDソリューションへの投資を継続し、顧客、従業員、およびステークホルダーに長期的な価値を提供していく方針です。

ベネック取締役会メンバーのパトリック・ラビンツォーン博士は次のように述べています。「ジェイソンは、現在の成長段階にあるベネックに必要な技術的専門性、事業運営およびアカウント管理の経験、そしてグローバルな視点を兼ね備えています。半導体業界における優れた実績と学術的背景により、同社がこれまで築いてきた勢いをさらに発展させる存在になるでしょう」

また、ベネックのCEOに就任したジェイソン・ハリソン博士は次のように述べています。「ベネックは強固な技術基盤、優秀なチーム、そして半導体および光学分野の重要市場において拡大する顧客基盤を有しています。チームとともに事業遂行を加速し、お客様からの信頼に応えていくことを楽しみにしています」

ベネックについて

ベネックは、1984年に世界初の商用ALD装置を投入し、原子層堆積（ALD）の産業利用を切り開きました。現在は、特殊半導体デバイス製造向けの「Beneq Transform®」「Transform XP」「Transform 300」「Transmute™」、研究開発向けの「TFS 200」「TFS 500」、重要な半導体チャンバー部品や複雑形状部品向けコーティング用バッチシステム「P400A」「P800」「P1500」、さらに「C2R™」やロール・ツー・ロール処理装置などの空間ALDプラットフォームを含む製品群を展開しています。フィンランド・エスポーに本社を置き、半導体、光学、機能性コーティング分野において、研究室から量産までを支えるALD統合ソリューションを提供しています。

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